用流延涂覆機在銅箔表面涂硅膠

實驗設備：MSK-AFA-I流延涂覆機、ZKC-250真空樣品貯存器、DZF-6020真空干燥箱

MSK-AFA-I流延涂覆機	ZKC-250真空樣品儲藏罐	DZF-6020真空干燥箱

圖1實驗所用設備圖

實驗材料：液態硅膠、銅箔
實驗目的：使用流延涂覆機將液態硅膠均勻涂覆在銅箔表面，用真空干燥箱在90℃的環境下將薄膜烘干，而后使用數顯千分尺測量烘干后薄膜的厚度和均勻性。
實驗過程：
①原料混合：
首先，將液態硅膠原料按1:1的比例混合好，混合后的液態硅膠內充滿氣泡，將充滿氣泡的液態硅膠放入到ZKC-250真空樣品貯存器中，對罐體抽真空使液體中的氣泡排出，反復抽幾次真空，使膠體中所有氣泡全部排出，從而降低氣泡對薄膜的影響。
②樣品涂膜：
涂布前應開啟真空泵將樣品固定在真空吸盤上，然后調節刮刀頂端的機械千分尺，設置薄膜的涂覆厚度，本實驗液態薄膜的涂覆厚度設置為50μm。將脫泡后的液態硅膠用膠管吸出，擠入涂布機的刮刀內，設置涂布行程和涂布速度，然后開啟涂布機對銅箔進行涂膜，擠入硅膠和涂膜后的試樣如圖所示：

擠入硅膠的試樣圖	涂膜后的試樣圖

圖2 擠入硅膠和涂膜后的試樣圖

③薄膜烘干測厚：
首先在制備薄膜前將烘箱溫度設置為90℃，開啟烘干箱，使溫度加熱至90℃待用，而后將涂覆后的薄膜平移（以防銅箔出現褶皺）至DZF-6020烘干箱中進行烘干，烘干時間設置為1小時。烘干后取出帶有薄膜的銅箔，然后將薄膜從銅箔上撕下，待薄膜變形恢復后使用數顯千分尺對薄膜厚度進行測量，測量結果如圖3所示，不同位置的薄膜厚度絕大部分為0.112㎜、0.111㎜、0.112㎜。

取下的薄膜樣品厚度圖1	取下的薄膜樣品厚度圖2
取下的薄膜樣品厚度圖3	取下后的薄膜樣品圖

圖3 從銅箔上取下的薄膜圖

實驗結論：通過對烘干后的薄膜進行厚度測試可知，整張薄膜絕大多數區域的厚度在0.111㎜-0.112㎜范偉內，可見使用AFA-I刮膜機所涂覆的液態硅膠薄膜厚度均勻，液態硅膠薄膜可使用刮膜機進行薄膜制備。
設備優勢：
1、MSK-AFA-I自動涂布機廣泛用于各種平板涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜等。該機采用真空吸附方法來對基片進行固定，使得在涂布過程中基片無褶皺現象產生，從而使得涂布更加均勻順暢。制膜寬度可通過更換不通的制膜器進行改變，制膜厚度可通過制膜器進行調節。制膜長度通過控制刮刀的行程來控制，刮刀的行程可在10-290mm的范圍內進行調節。設備體積小巧，適合在實驗室中使用。
2、ZKC-250真空樣品貯存器可以貯存各種樣品，如生化試劑、藥品、光學鏡頭、種子、精密元器件、文物等，防止其氧化、變質。對不宜真空保存的物體，通過變更進、出氣口，可以充入各種惰性保護氣體，以達到防止氧化、變質的作用。本機也可以用來對物體進行真空干燥，且快速、安全有效。
3、DZF-6020真空干燥箱（真空烘箱）專為干燥熱敏性，易分解和易氧化物質而設計，能夠向內部沖入惰性氣體，特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥，也可用于普通環境下對一些材料進行干燥。